一种半导体检测系统和回刻深度的测量方法
基本信息
| 申请号 | CN201210366154.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102856228B | 公开（公告）日 | 2018-03-30 |
| 申请公布号 | CN102856228B | 申请公布日 | 2018-03-30 |
| 分类号 | H01L21/66 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 楼颖颖 | 申请（专利权）人 | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 地址 | 201203 上海市张江高科技园区祖冲之路1399号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种半导体检测系统和回刻深度的测量方法，设置一标准模板，接着对待检对象进行图像采集，获取实际情况下的图像，并与标准模板进行比较，从而判断出回刻后的深度状况，该方法简便易行，有利于在早期发现缺陷，从而能够大大的节省成本，并能够较好的控制产出器件的良率。 |
