一种非易失性存储器件及其设计方法

基本信息

申请号 CN200710175710.8 申请日 -
公开(公告)号 CN101132025A 公开(公告)日 2008-02-27
申请公布号 CN101132025A 申请公布日 2008-02-27
分类号 H01L29/788(2006.01);H01L29/423(2006.01);H01L29/49(2006.01);H01L27/115(2006.01) 分类 基本电气元件;
发明人 朱一明;胡洪 申请(专利权)人 北京市中关村小额贷款股份有限公司
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人 许静
地址 100084北京市海淀区清华科技园学研大厦B座301室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种非易失性存储器件及其设计方法:包括:金属层、接触孔、阻挡层和晶体管,晶体管包括多晶硅层,金属层与接触孔形成控制栅;多晶硅层在阻挡层的阻隔下未与接触孔直接连接而形成浮栅;其中,金属层、接触孔、阻挡层和多晶硅层依次连接共同形成电容结构。通过本发明大大提高了控制栅与浮栅耦合电容的电容密度,减小了存储单元的面积,并有利于集成系统的金属线连接。