一种偏心抛光机构
基本信息
| 申请号 | CN202110649228.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113263419A | 公开（公告）日 | 2021-08-17 |
| 申请公布号 | CN113263419A | 申请公布日 | 2021-08-17 |
| 分类号 | B24B29/00;B24B41/04 | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 刘小平;李学时;郭克文;文斌;张泉波 | 申请（专利权）人 | 湖南宇环精密制造有限公司 |
| 代理机构 | 长沙朕扬知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 周孝湖 |
| 地址 | 410000 湖南省长沙市长沙经济技术开发区泉塘街道映霞路4号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种偏心抛光机构，包括：驱动机构，驱动机构具有一输出轴；中间连接件，输出轴通过键与中间连接件相连接；抛光盘，抛光盘上连接一抛光轴，抛光轴可转动地安装在中间连接件上，抛光轴与输出轴偏心设置。该偏心抛光机构的输出轴通过键与中间连接件相连接，输出轴通过中间连接件与输出轴偏心设置间接连接，输出轴与中间连接件之间只传递力矩，不会受抛光盘抛光时产生的力的影响，抛光过程中会产生揉动，能有效地清除抛光留下的抛光纹路痕迹；采用气密封结构，可防止抛光液、水等进入偏心座内腔，对轴承及电机起到保护作用，避免了传统的接触式动密封方式，由于存在磨损，随着时间的延长密封效果下降的问题。 |
