揉搓抛光机构
基本信息
| 申请号 | CN202110673263.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113275998A | 公开（公告）日 | 2021-08-20 |
| 申请公布号 | CN113275998A | 申请公布日 | 2021-08-20 |
| 分类号 | B24B29/00;B24B47/12 | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 刘小平;张泉波;付向东;彭革辉;郭克文 | 申请（专利权）人 | 湖南宇环精密制造有限公司 |
| 代理机构 | 长沙朕扬知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 周孝湖 |
| 地址 | 410000 湖南省长沙市长沙经济技术开发区泉塘街道映霞路4号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种揉搓抛光机构，包括安装板、驱动机构和抛光轮，驱动机构安装于安装板上，驱动机构具有一输出轴，输出轴上安装一偏心转轴，抛光轮可转动地安装在偏心转轴上，抛光轮与输出轴偏心设置，安装板和抛光轮之间设有用于使抛光轮产生线速度稳定的揉搓运动的揉搓机构。该揉搓抛光机构在抛光工件时，抛光轮以稳定的线速度揉动，不会因为抛光轮与工件的接触面积不同、摩擦阻力的变化、抛光耗材的损耗等原因，引起抛光轮的线速度波动，也不会产生同心轮的打磨纹路深，下道工序无法去除纹路的问题；从而能够得到较好的抛光效果，最大程度地减少工件局部出现橘皮和振纹的现象，保证了产品抛光过程中的良率。 |
