超短焦正投影用抗光幕布
基本信息
| 申请号 | CN202022112858.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213149466U | 公开（公告）日 | 2021-05-07 |
| 申请公布号 | CN213149466U | 申请公布日 | 2021-05-07 |
| 分类号 | G03B21/60(2014.01)I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 安曼;焦康;成志秀;梁立华;赵义丽;许剑 | 申请（专利权）人 | 上海乐凯新材料科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京清亦华知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 肖阳 |
| 地址 | 071054 河北省保定市乐凯南大街6号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了超短焦正投影用抗光幕布。该超短焦正投影用抗光幕布包括：光学棱镜层和表层；光学棱镜层包括基底和多个光学棱镜单元；光学棱镜单元包括上侧面、下侧面和底面，底面设在基底上；表层形成在光学棱镜层远离基底的至少部分表面；表层包括支撑层，以及形成在支撑层远离光学棱镜层的至少部分表面上的多条反射条纹，多条反射条纹彼此间隔设置，且反射条纹位于与下侧面相贴合的支撑层上。该幕布将光学棱镜层的一部分作为基底，省去了传统的幕布基材层，降低了幕布的厚度；同时采用设置有间隔反射条纹的支撑层作为表层，与传统的直接光学棱镜单元侧面涂覆反射层的工艺相比，可大幅度提高幕布产品的良品率，并减低生产成本。 |
