一种可连续大面积均匀化学气相沉积的喷头系统
基本信息
| 申请号 | CN200810072222.9 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101492812B | 公开（公告）日 | 2011-03-23 |
| 申请公布号 | CN101492812B | 申请公布日 | 2011-03-23 |
| 分类号 | C23C16/44(2006.01)I;C23C16/30(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 郑玉祥;周均;范红兵;陈飞;赵国旭 | 申请（专利权）人 | 招商局漳州开发区丝路新能源有限公司 |
| 代理机构 | 厦门市新华专利商标代理有限公司 | 代理人 | 招商局漳州开发区创大太阳能有限公司;招商局漳州开发区创达太阳能科技有限公司 |
| 地址 | 363000 福建省漳州市招商局漳州开发区汤洋工业园三号通用厂房2楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开一种可连续大面积均匀化学气相沉积的喷头系统，包括输送管路、固定面板、安装在固定面板上部的一次反应气体混合腔体、安装在固定面板下部的喷管，喷管具有喷气口，在固定面板的上部还安装了循环水冷却系统，在固定面板的下部还安装了二次反应气体混合腔体，喷管罩在二次反应气体混合腔体中，二次反应气体混合腔体的横截面呈“V”字型，二次反应气体混合腔体的底部开有单缝隙喷嘴，原料气体经由输送管路进入一次反应气体混合腔体，再进入喷管中，然后从喷管的喷气口喷出后进入二次反应气体混合腔体，最后由单缝隙喷嘴喷出。此系统可以降低沉积温度，使大面积沉积时薄膜的均匀性容易控制，以保证连续大规模生产的正常进行。 |
