一种3D结构光940nm窄带滤光片及其制备方法

基本信息

申请号 CN201911201173.9 申请日 -
公开(公告)号 CN111638572B 公开(公告)日 2021-03-05
申请公布号 CN111638572B 申请公布日 2021-03-05
分类号 G02B5/28(2006.01)I;G02B1/00(2006.01)I 分类 光学;
发明人 杨志民;孟庆宣 申请(专利权)人 苏州京浜光电科技股份有限公司
代理机构 苏州圆融专利代理事务所(普通合伙) 代理人 郭珊珊
地址 215501江苏省苏州市常熟经济开发区高新技术园柳州路7号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种3D结构光940nm窄带滤光片及其制备方法,包括基底,所述基底一面交替蒸镀有氧化硅层和氢化硅层,所述基底另一面交替蒸镀有氧化硅层和氢化硅层,每一面所述氧化硅层和氢化硅层的总层数均设置为20‑40层,每一面所述氧化硅层的厚度设置为1300‑2000nm,每一面所述氢化硅层的厚度设置为400‑800nm。本发明,得到滤光片可以使氢化硅的折射率达到控3.8‑4.5,二氧化硅的折射率达到1.4‑1.6,可以满足大角度小偏移的要求;采用的膜系方案,波长定位准确,陡度好;空间层采用高折射率的氢化硅材料,耦合层则用低折射率的二氧化硅材料,这样角度效应引起的偏移量比用低折射率材料要小。