用于微颗粒表面真空镀金属膜的设备

基本信息

申请号 CN200520026799.8 申请日 -
公开(公告)号 CN2848872Y 公开(公告)日 2006-12-20
申请公布号 CN2848872Y 申请公布日 2006-12-20
分类号 C23C14/34(2006.01) 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 沈志刚;徐政;俞晓正 申请(专利权)人 国家纳米技术产业化基地
代理机构 天津市三利专利商标代理有限公司 代理人 国家纳米技术产业化基地;北京航空航天大学;深圳微纳超细材料有限公司
地址 300457天津市天津经济技术开发区第四大街80号A2座2层
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及用于微颗粒表面真空镀金属膜的设备,包括真空室、溅射靶架、样品架、样品皿、加热器、观察窗、放气阀、密封圈及真空抽气装置;真空室内上部设置溅射靶架,其下部对应设有样品架,样品架上面设有样品皿,样品架下面设有加热器,真空室还设有观察窗、放气阀、密封圈,设有真空抽气装置通过管路与真空室联通;并对应连接流量计、分子泵和机械泵,同时配置电器控制及冷却循环水系统;其特征是样品架连接设有振动发生器。通过调节样品架的摆动频率和超声波或机械振动发生器的振动功率,让每个微颗粒都充分暴露其表面,显著提高微颗粒表面镀金属膜的纯度、均匀性、致密性和附着力。结构简单、操作简便,无废水废气污染,节能降耗且应用广。