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微颗粒表面真空镀金属膜工艺及其设备

基本信息

申请号	CN200510014639.6	申请日	-
公开（公告）号	CN1718845A	公开（公告）日	2006-01-11
申请公布号	CN1718845A	申请公布日	2006-01-11
分类号	C23C14/34(2006.01);C23C14/54(2006.01)	分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人	沈志刚;俞晓正;徐政	申请（专利权）人	国家纳米技术产业化基地
代理机构	天津市三利专利商标代理有限公司	代理人	北京航空航天大学;国家纳米技术产业化基地;深圳微纳超细材料有限公司
地址	100083北京市海淀区学院路37号
法律状态	-

摘要

本发明涉及微颗粒表面真空镀金属膜工艺及其设备，其特征是采用样品架连接设有超声波或机械振动发生器的镀金属膜设备，进行微颗粒表面真空镀金属膜步骤如下：首先备好各种微颗粒材料；选用金属溅射靶材银、铜、铝、钴、镍之一置于溅射靶架上；把装入微颗粒的样品皿置于样品台；打开机械泵抽真空至1Pa～10Pa；打开分子泵抽真空至1.0×10^－3Pa～8.0×10^－3Pa；并向真空室内充氩气至0.1Pa～10Pa；打开超声波或机械振动发生器和样品架摆动装置，调节超声波振动功率范围：10w～200w，或机械振动功率范围：5w～5000w，样品架摆动频率范围：10次/分～80次/分；溅射功率范围：50w～5000w，溅射镀膜时间范围：10分钟～180分钟。操作简便，无废水废气污染，节能降耗。