一种钼镍基多元合金旋转靶材及其制备方法

基本信息

申请号 CN202110763518.0 申请日 -
公开(公告)号 CN113463053A 公开(公告)日 2021-10-01
申请公布号 CN113463053A 申请公布日 2021-10-01
分类号 C23C14/35(2006.01)I;B22F1/00(2006.01)I;B22F3/04(2006.01)I;B22F3/10(2006.01)I;B22F3/17(2006.01)I;B22F3/24(2006.01)I;B22F9/04(2006.01)I;C21D1/30(2006.01)I;C22F1/18(2006.01)I;C22C27/04(2006.01)I;B22F5/12(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 吴宇宁;卿海标 申请(专利权)人 南京达迈科技实业股份有限公司
代理机构 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 代理人 常孟
地址 211102江苏省南京市江宁经济开发区殷巷九竹路铺岗街379号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种钼镍基多元合金旋转靶材及其制备方法,旋转靶材原子组成是Mo100‑x‑y‑NizTixAly,且X、Y、Z表示原子组成百分比,10≤X≤40,1≤Y≤20,1≤Z≤18;制备先将钼粉、电解镍粉和钛铝预合金粉末按比例混合,然后进行脱氧提纯处理、进行球磨混合、灌粉振实处理、冷等静压成型、脱模、真空卧式烧结、旋锻处理、退火处理得到钼镍钛铝合金管锭,最后通过机加工切片制成钼镍钛铝合金靶材。本发明制备过程能够减少杂质元素的引入,所生产靶材成分均匀、无偏析、晶粒细小,密度可达到理论值99%以上,能够完全满足目前大尺寸溅射靶材的镀膜要求。z