一种用于阵列波导的镀膜方法
基本信息
| 申请号 | CN202110784782.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113481483A | 公开（公告）日 | 2021-10-08 |
| 申请公布号 | CN113481483A | 申请公布日 | 2021-10-08 |
| 分类号 | C23C14/54（2006.01）I;C23C14/34（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I;C23C14/10（2006.01）I;G02B6/10（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 沈旭辉;金波;郑臻荣;刘书墨;张敷阳 | 申请（专利权）人 | 杭州科汀光学技术有限公司 |
| 代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人 | 陈升华 |
| 地址 | 311100浙江省杭州市余杭经济开发区天荷路21号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于阵列波导的镀膜方法——该镀膜方法以阵列波导每层膜系出射光束能量的均匀性为准则，通过计算评估每层膜系对不同角度光束的反射率，给出镀膜技术指标，然后将镀膜技术指标作为膜系设计的优化条件，建立膜系结构，实现大角度光束截止，最后将设计好的膜系镀在测试片上，观测测试数据是否满足镀膜技术指标要求，满足则在溅射机和蒸镀机上镀膜。 |
