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一种低应力的多层薄膜滤光片及其制备方法

基本信息

申请号 CN202010323455.2 申请日 -
公开（公告）号 CN111399103A 公开（公告）日 2020-07-10
申请公布号 CN111399103A 申请公布日 2020-07-10
分类号 G02B5/28(2006.01)I 分类 -
发明人 吴江波;刘璐;艾曼灵;金波;郑臻荣;顾培夫 申请（专利权）人 杭州科汀光学技术有限公司
代理机构 杭州求是专利事务所有限公司 代理人 杭州科汀光学技术有限公司
地址 311100浙江省杭州市余杭经济开发区天荷路21号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开一种低应力的多层薄膜滤光片及其制备方法，基底为3.3硼硅玻璃，多层薄膜滤光片为双半波窄带干涉滤光片。3.3硼硅玻璃的线膨胀系数为3.3×10‑6/度；为减小滤光片的结累应力，采用基底加热和离子辅助两种技术。当基底温度250℃时，TiO2和SiO2膜的聚集密度分别为接近于1和0.92，滤光片的结累张应力为10.8MPa；若选择离子能量350eV，并保持到达基底的辅助离子数与淀积分子数之比JI/JM对TiO2和SiO2膜分别为0.15和0.05，则TiO2和SiO2的聚集密度分别为接近于1和0.96，滤光片的结累压应力为‑7MPa。这种低应力薄膜滤光片可广泛应用于各种光电仪器。