一种基于主动熵采样和模型校准的低代价光刻热点检测方法
基本信息
申请号 | CN202110934335.0 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113674235A | 公开(公告)日 | 2021-11-19 |
申请公布号 | CN113674235A | 申请公布日 | 2021-11-19 |
分类号 | G06T7/00(2017.01)I;G06K9/62(2006.01)I;G06N3/04(2006.01)I;G06N3/06(2006.01)I;G06N3/08(2006.01)I | 分类 | 计算;推算;计数; |
发明人 | 罗立轩;宿淼迪;丁鸿志;翁绍鸿;陈忆鹭;邹长忠 | 申请(专利权)人 | 上海立芯软件科技有限公司 |
代理机构 | 福州元创专利商标代理有限公司 | 代理人 | 陈明鑫;蔡学俊 |
地址 | 201306上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区云汉路979号2楼 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及一种基于主动熵采样和模型校准的低代价光刻热点检测方法,设计了一种新颖的不确定度评估方式,能够选择具有较高不确定性的热点样本加入扩展训练集,从而有效提高模型检测的精度。在采样过程中应用了高效的多样性衡量方式,避免求解复杂的凸优化方程,与已有方法相比具有更低的计算开销和错误率。提出了一种基于熵的权重分配策略,根据信息量动态对指标进行加权,能够综合评估不确定度和多样性的因素。本发明能够实现了较好的检测精度,并有效降低了平刻模拟开销。 |
