一种真空镀膜机的离子源控制器
基本信息
| 申请号 | CN201821022681.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN208414544U | 公开（公告）日 | 2019-01-22 |
| 申请公布号 | CN208414544U | 申请公布日 | 2019-01-22 |
| 分类号 | C23C14/54 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 沈琪;莫超超;刘悦洲;孙阳;陈志龙 | 申请（专利权）人 | 爱发科商贸（上海）有限公司 |
| 代理机构 | 上海骁象知识产权代理有限公司 | 代理人 | 爱发科商贸（上海）有限公司 |
| 地址 | 201101 上海市闵行区七莘路1000号1幢1-3层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种真空镀膜机的离子源控制器，包括底座，所述底座的顶部一侧放置有离子源控制器本体，所述底座的顶部另一侧焊接有立柱，所述立柱与离子源控制器本体之间设有焊接在底座顶部的限位杆，所述离子源控制器本体的一侧固定安装有安装板，所述安装板活动套设在限位杆上，所述安装板的一侧与立柱靠近离子源控制器本体的一侧相接触，所述安装板的另一侧开设有滑槽，所述滑槽内设有水平设置的滑杆，所述滑杆的一端焊接有竖杆。本实用新型设计合理，结构简单，操作方便，能够快速的对离子源控制器本体进行安装，且便于调节并固定离子源控制器本体的高度，以方便人们操控离子源控制器本体，有利于人们使用。 |
