一种胶体溶液制备及镀膜装置及镀膜方法
基本信息
| 申请号 | CN201710134066.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106987828B | 公开（公告）日 | 2019-05-17 |
| 申请公布号 | CN106987828B | 申请公布日 | 2019-05-17 |
| 分类号 | C23C18/12（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 牛微; 毕孝国; 唐坚; 董颖男 | 申请（专利权）人 | 沈阳鑫谱晶体科技有限公司 |
| 代理机构 | 沈阳铭扬联创知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 沈阳工程学院 |
| 地址 | 110136 辽宁省沈阳市沈北新区蒲昌路18号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种胶体溶液制备及镀膜装置及镀膜方法，属于薄膜制备领域，包括：多组组分溶液存储容器；每组组分溶液存储容器连接的一级组分溶液滴定速度控制器；与每组组分溶液滴定速度控制器的出口连接的胶体溶液反应器；与所述胶体溶液反应器出口连接的中间级组分溶液滴定速度控制器；与中间级组分溶液滴定速度控制器连接的胶体溶液存储器；与所述胶体溶液存储器的出口连接的末级组分溶液滴定速度控制器；与所述末级组分溶液滴定速度控制器出口连接的导管；以及，导管将胶体导入到的浸渍镀膜装置进行镀膜。通过精确的控制胶体溶液配制和镀膜过程，保证化学组成、厚度、光学性质均匀一致性，满足纳米功能薄膜的制备要求。 |
