阳光控制低辐射涂层溶液及其制备方法和用途
基本信息
| 申请号 | CN200410009078.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN100441646C | 公开（公告）日 | 2008-12-10 |
| 申请公布号 | CN100441646C | 申请公布日 | 2008-12-10 |
| 分类号 | C09D163/00(2006.01);C09D133/00(2006.01);C09D5/00(2006.01) | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 曹新宇;江雷 | 申请（专利权）人 | 中科纳米技术工程中心有限公司 |
| 代理机构 | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人 | 长春迪高实业有限公司 |
| 地址 | 130033吉林省长春市经济技术开发区世纪大街9号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种水性溶液体系的组成及用此溶液制备阳光控制低辐射涂层的方法，构成此涂层的溶液体系至少包含一种掺杂金属氧化物的纳米粒子和高分子成膜成份。该溶液体系的分散介质为水、水和醇类、水和醇类及酯类的混合溶液，分散介质不含苯、甲苯及毒害大的挥发成分；该涂层的制备为常压下成膜，处理温度不超过150摄氏度；如有必要，此涂层可复合其它薄膜以得到更佳阳光控制和低辐射的效果。溶液可直接涂敷于玻璃表面和有机材料表面，不受基材的形状和尺寸限制，具有良好的耐磨性。 |
