一种用于硅片抛光粗抛工序的抛光液及其制备方法和应用
基本信息
| 申请号 | CN202011604304.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112680112A | 公开（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申请公布号 | CN112680112A | 申请公布日 | 2021-04-20 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 裴亚利;赵雪振;操应军;刘阳 | 申请（专利权）人 | 北京航天赛德科技发展有限公司 |
| 代理机构 | 北京方韬法业专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 刘青霞 |
| 地址 | 100000北京市海淀区蓝靛厂南路59号23号楼二层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种用于硅片抛光粗抛工序的抛光液及其制备方法和应用，属于抛光液领域，包括如下重量百分比的组分：二氧化硅胶体20％‑40％、非离子活性剂0.01％‑0.05％、分散剂0.1％‑0.5％、络合剂1％‑5％和抑泡剂0.05％‑0.1％，有机碱调节pH至11‑13，余量为去离子水。本发明采用二氧化硅胶体为主要原料，并通过合理搭配助剂，可提供较快的粗抛速率，从而达到最佳的抛光效果。 |
