一种原子层沉积设备
基本信息
| 申请号 | CN202121551452.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215163107U | 公开（公告）日 | 2021-12-14 |
| 申请公布号 | CN215163107U | 申请公布日 | 2021-12-14 |
| 分类号 | C23C16/455（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 檀长兵;周文斌;徐超;盛嫦娥;曹云玲;张峰;孙剑;高裕弟 | 申请（专利权）人 | 昆山梦显电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京远智汇知识产权代理有限公司 | 代理人 | 范坤坤 |
| 地址 | 215300江苏省苏州市昆山市晨丰路188号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种原子层沉积设备。原子层沉积设备包括：产品载台、第一进气扩散板和排气扩散板。产品载台包括进气侧和出气侧；第一进气扩散板设置于产品载台的进气侧；第一进气扩散板包括矩阵排布的进气孔，用于使驱体向产品载台均匀扩散；排气扩散板设置于产品载台的出气侧；排气扩散板包括矩阵排布的排气孔，用于使驱体维持均匀扩散；其中，进气孔和排气孔的形状均为喇叭状，进气孔的孔径较大的一端朝向产品载台，进气孔的孔径较小的一端背离产品载台；排气孔的孔径较大的一端朝向产品载台，排气孔的孔径较小的一端背离产品载台。本实用新型实施例可以提高产品膜层的致密性和均匀性，降低产品不良。 |
