一种面蒸发源喷嘴结构
基本信息
| 申请号 | CN202121827837.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215328330U | 公开（公告）日 | 2021-12-28 |
| 申请公布号 | CN215328330U | 申请公布日 | 2021-12-28 |
| 分类号 | C23C14/24（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王卫卫;周文斌;朱晓庆;范国振;沈倩;孙剑;高裕弟 | 申请（专利权）人 | 昆山梦显电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京远智汇知识产权代理有限公司 | 代理人 | 林波 |
| 地址 | 215300江苏省苏州市昆山市晨丰路188号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及有机发光显示器制作技术领域，公开了一种面蒸发源喷嘴结构，面蒸发源喷嘴结构设置于真空腔室和基板之间，包括：第一结构层，第一结构层中设有多个喷孔结构，喷孔结构与真空腔室连通，喷孔结构用于将真空腔室中的有机材料蒸气喷出；第二结构层，第二结构层连接于第一结构层靠近基板的一侧，第二结构层上设有多个引导缝隙，引导缝隙的数量与喷孔结构的数量相等，多个引导缝隙与多个喷孔结构一一对应设置，引导缝隙的一端与喷孔结构连通，引导缝隙的另一端用于将有机材料蒸气引导向基板。通过上述结构，该面蒸发源喷嘴结构能够有效改善蒸镀阴影，降低蒸镀不良，提高产品质量。 |
