弧源装置及该弧源装置的弧源磁场的调节方法
基本信息
| 申请号 | CN201811204516.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109385607A | 公开（公告）日 | 2021-06-15 |
| 申请公布号 | CN109385607A | 申请公布日 | 2021-06-15 |
| 分类号 | C23C14/32;C23C14/14 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 周敏;王文宝;朱岩;李军旗 | 申请（专利权）人 | 深圳精匠云创科技有限公司 |
| 代理机构 | 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 | 代理人 | 唐芳芳;李艳霞 |
| 地址 | 518109 广东省深圳市龙华区龙华街道东环二路二号富士康科技园D1区塑模厂1层及夹层A区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提出一种弧源装置，包括靶材、横置线圈、多个纵置线圈及电源，横置线圈平行于靶材且位于靶材之后，多个纵置线圈依次设置于横置线圈中，横置线圈、多个纵置线圈与靶材之间的垂直距离相同，电源与横置线圈、多个纵置线圈分别电性连接且能够分别调节横置线圈及多个纵置线圈的电流大小及方向。本发明还提出一种弧源磁场的调节方法。本发明的弧源装置通过调节多个磁极平行于靶材平面的纵置线圈的电流，来耦合出磁拱位置形状不同的磁场，从而增加了靶材的利用率。并且每个纵置线圈能够独立调节电流，从而保证耦合的磁拱即使位置形状不同，但耦合磁拱的顶部在靶材上的磁场强度保持近似，从而确保弧斑运动速度不减弱，从而保证液滴不增加。 |
