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一种磁控溅射镀光学膜膜厚监控方法

基本信息

申请号 CN201310749608.X 申请日 -
公开（公告）号 CN103673905A 公开（公告）日 2014-03-26
申请公布号 CN103673905A 申请公布日 2014-03-26
分类号 G01B11/06(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I 分类 测量；测试;
发明人 程春生;张钦廉;曹嘉寰;符东浩 申请（专利权）人 合波光电通信科技有限公司
代理机构 上海新天专利代理有限公司 代理人 徐伟奇
地址 314200 浙江省嘉兴市平湖市经济开发区新兴一路669号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种磁控溅射镀光学膜膜厚监控方法，该方法包括如下步骤：①设计一种特定膜系，该膜系主要用于对磁控溅射镀膜沉积速率的监控；②在一定工艺条件下，利用磁控溅射沉积该特定膜系，通过镀膜过程中监控镀膜沉积速率，或镀膜完成后测试、计算该沉积速率；③采用与②相同工艺条件，将②中的沉积速率换算后采用时间或圈数监控膜厚，实现最终膜系的制备。本发明的制作方法利用光学方法监控沉积速率，时间、圈数或类似方法监控膜层厚度，可摆脱光学监控对光源波长、单层光谱变化值等限制。