用于真空镀膜系统的环形坩埚
基本信息
| 申请号 | CN201520920849.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN205188413U | 公开（公告）日 | 2016-04-27 |
| 申请公布号 | CN205188413U | 申请公布日 | 2016-04-27 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 谢继闯 | 申请（专利权）人 | 合波光电通信科技有限公司 |
| 代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人 | 林松海 |
| 地址 | 314200 浙江省嘉兴市平湖经济开发区新兴一路725号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于真空镀膜系统的环形坩埚，包括环形主体、水流分流板、底板、冷却水导管、旋转主轴，环形主体的中心通过螺丝固定水流分流板，外圈设有氟橡胶密封圈，底板通过固定螺栓与固定水流分流板相连压紧氟橡胶密封圈后形成一个中空腔体为冷却水提供循环空间，然后整体固定在电机的旋转主轴上，主轴中空，内部设有冷却水导管为所述中空腔体提供冷却水。所述的环形主体进一步设有上盖板，用于为防止蒸镀过程对固定螺栓的污染。本实用新型的有益效果是：增大冷却水冷却面积后可以避免蒸镀材料在预熔料过程中出现的结构密度问题，能有效减少预熔次数节约蒸镀材料稳定蒸镀速率。 |
