用于物理气相沉积薄膜厚度分布控制的修正挡板
基本信息
| 申请号 | CN201520974591.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN205241781U | 公开（公告）日 | 2016-05-18 |
| 申请公布号 | CN205241781U | 申请公布日 | 2016-05-18 |
| 分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 方明;王英剑;刘斌;赵浩 | 申请（专利权）人 | 合波光电通信科技有限公司 |
| 代理机构 | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人 | 林松海 |
| 地址 | 314200 浙江省嘉兴市平湖经济开发区新兴一路725号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于物理气相沉积薄膜厚度分布控制的修正挡板，所述的修正挡板为一对，采用蝴蝶翅膀形弯折的结构，固定在物理气相沉积设备的特定位置，修正板分别只对一个蒸发源在镀膜面上具有阴影效应，使得两个蒸发源可以被独立的控制，且无机械运动部件，可以在复合薄膜沉积过程中实现两种或多种材料无耦合地控制。 |
