透明导电薄膜用湿法蚀刻液及其制造方法
基本信息
| 申请号 | CN200910026139.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN101519593A | 公开（公告）日 | 2009-09-02 |
| 申请公布号 | CN101519593A | 申请公布日 | 2009-09-02 |
| 分类号 | C09K13/00(2006.01)I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 赵佳;黄巍;顾奇 | 申请（专利权）人 | 苏州苏电微电子信息化学品研发中心有限公司 |
| 代理机构 | 南京苏科专利代理有限责任公司 | 代理人 | 苏州瑞晶化学有限公司;苏州苏电微电子信息化学品研发中心有限公司;苏州瑞红电子化学品有限公司 |
| 地址 | 215128江苏省苏州市吴中区吴中经济开发区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种透明导电薄膜用湿法蚀刻液及其制造方法，其配方：草酸(乙二酸)0.1％～11％，表面活性剂0.001wt％～10wt％，去离子水79～99.899wt％；制备时：先将去离子水加入分散锅中，搅拌下加入草酸、表面活性剂，搅拌10～60分钟，使其完全溶解均匀，过滤，出料。该蚀刻剂能在温和的条件下对无定形ITO层进行蚀刻，且蚀刻后不会有残渣，线条平整，精度高，其工艺操作十分方便、易于控制，广泛用于透明导电薄膜的蚀刻。 |
