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一种抗电磁干扰的软磁颗粒膜及其制备方法

基本信息

申请号 CN202010735170.X 申请日 -
公开（公告）号 CN111863372A 公开（公告）日 2020-10-30
申请公布号 CN111863372A 申请公布日 2020-10-30
分类号 H01F1/33(2006.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 邓毕力;潘振海;王玉川;徐敏义;罗顶飞;晋立从;张朋;王波 申请（专利权）人 安徽智磁新材料科技有限公司
代理机构 北京挺立专利事务所（普通合伙） 代理人 安徽智磁新材料科技有限公司
地址 236000安徽省阜阳市颍泉区阜阳循环经济园区周棚路82号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供一种抗电磁干扰的软磁颗粒膜及其制备方法，所述软磁颗粒膜为多层结构，为中间的双相纳米晶软磁薄膜和位于所述双相纳米晶软磁薄膜两侧的多个交叠重复结构，所述交叠重复结构包括一层纳米ZnO层和一层纳米六方氮化硼层；所述双相纳米晶软磁薄膜的结构式为((FezA1‑z)aCobQcBad)1‑x‑(RO2)x；所述双相纳米晶软磁薄膜为bbc结构的α‑(FezA1‑z)aCobQcBad纳米金属颗粒被RO2绝缘介质纳米颗粒包裹结构。本发明通过添加RO2掺杂包裹bbc结构的α‑(FezA1‑z)aCobQcBad纳米金属，有效降低矫顽力，使软磁性能得到提高，有利于薄膜的颗粒细化。