一种投影曝光装置及方法
基本信息
| 申请号 | CN201510646618.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106569390B | 公开（公告）日 | 2019-01-18 |
| 申请公布号 | CN106569390B | 申请公布日 | 2019-01-18 |
| 分类号 | G03F7/20 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 陈跃飞;于大维;潘炼东;周畅 | 申请（专利权）人 | 上海微高精密机械工程有限公司 |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司;上海微高精密机械工程有限公司 |
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张东路1525号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种投影曝光装置，依次包括：照明光源、掩膜版、掩膜台、基板、工件台、控制系统，在每个曝光区域内皆并排设有对准焦面测量系统和投影物镜组且位于掩膜台和基板之间，对准焦面测量系统用于在所述扫描曝光过程前或扫描曝光过程中，对所述掩膜版和所述基板进行对准测量的同时，进行所述基板的焦面测量。本发明还提供一种投影曝光方法，将每一个对准标记计算出原先坐标和补偿量并相加得到补偿坐标，计算掩膜版与基板的相对位置并且移动工件台补偿，同时完成位置与焦面对准，具有结构简单、占用空间小、精准度高的优点。 |
