一种光刻机同步控制系统及方法
基本信息
| 申请号 | CN201511026460.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106933050B | 公开（公告）日 | 2019-05-31 |
| 申请公布号 | CN106933050B | 申请公布日 | 2019-05-31 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 方欣 | 申请（专利权）人 | 上海微高精密机械工程有限公司 |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司; 上海微高精密机械工程有限公司 |
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张东路1525号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种光刻机同步控制系统及方法，所述光刻机同步控制系统包括干涉仪分系统和外部分系统，所述干涉仪分系统包括通过同步总线连接的同步控制卡、多通道光纤卡及干涉仪计数卡，所述同步控制卡通过外同步通道与所述外部分系统连接，所述多通道光纤卡通过光纤通道与所述外部分系统连接。本发明提供的技术方案，通过将干涉仪分系统和工件台掩模台分系统的硬件解耦，使干涉仪分系统的同步控制卡可以连接更多的测量轴和外部分系统，增加了干涉仪分系统以及工件台掩模台分系统的扩展性。通过提供格式和接口标准统一的外同步通道，实现外部分系统的扩展，提高了同步控制系统的通用性。 |
