一种含有臭氧的喷淋式清洗硅片的装置
基本信息
| 申请号 | CN201922477727.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN211914785U | 公开（公告）日 | 2020-11-13 |
| 申请公布号 | CN211914785U | 申请公布日 | 2020-11-13 |
| 分类号 | B08B3/08(2006.01)I | 分类 | - |
| 发明人 | 杜俊霖;孙林;张丽平;石建华 | 申请（专利权）人 | 中威新能源（成都）有限公司 |
| 代理机构 | 成都时誉知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 中威新能源（成都）有限公司 |
| 地址 | 610000四川省成都市双流西南航空港经济开发区内 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种含有臭氧的喷淋式清洗硅片的装置，包括清洗槽、碱液循环装置和臭氧发生器，所述清洗槽上设置有进液口和出液口，所述进液口和所述出液口分别与所述液体循环装置连接；本实用新型通过设计液体循环装置，在充满臭氧气体的清洗槽中喷淋酸性或碱性溶液，使硅片表面产生大量的气、液、固三相反应界面，解决了臭氧和自由基在碱性溶液中分解速度太快，无法到达硅片表面与有机沾污进行反应的难题。在充满臭氧气体的清洗槽中喷淋氢氟酸溶液，使硅片表面的臭氧可以达到很高的浓度，提高臭氧CP的腐蚀速率，缩短工艺时间，提高产能。 |
