金氧半场效晶体管器件

基本信息

申请号 CN202021210661.4 申请日 -
公开(公告)号 CN213366601U 公开(公告)日 2021-06-04
申请公布号 CN213366601U 申请公布日 2021-06-04
分类号 H01L29/78;H01L29/423 分类 基本电气元件;
发明人 陈译;陆佳顺;杨洁雯 申请(专利权)人 苏州硅能半导体科技股份有限公司
代理机构 苏州创元专利商标事务所有限公司 代理人 马明渡;王健
地址 215000 江苏省苏州市苏州工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城NW20幢501室
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开一种金氧半场效晶体管器件,其硅片中部且位于重掺杂N型漏极层和P型掺杂阱层之间具有一N型掺杂外延层;一位于P型掺杂阱层内的沟槽延伸至N型掺杂外延层内,位于P型掺杂阱层上部内且位于沟槽的周边具有重掺杂N型源极区;沟槽内间隔设置有用第一导电多晶硅柱、第二导电多晶硅柱,此第一导电多晶硅柱、第二导电多晶硅柱之间填充有第二二氧化硅层;一圆形洞槽包覆于沟槽下部和底部,此圆形洞槽的直径大于沟槽的宽度,所述圆形洞槽的表面覆盖有第三二氧化硅层。本实用新型金氧半场效晶体管器件减小了器件工作时候的开关损耗,且降低了关断时的导通电阻。