低压化学气相沉积炉管和低压化学气相沉积炉
基本信息
| 申请号 | CN201822129699.8 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN209468499U | 公开（公告）日 | 2019-10-08 |
| 申请公布号 | CN209468499U | 申请公布日 | 2019-10-08 |
| 分类号 | C23C16/44 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 赵超 | 申请（专利权）人 | 吉林麦吉柯半导体有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡志成知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 吉林麦吉柯半导体有限公司 |
| 地址 | 132000 吉林省吉林市高新区深圳街99号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开一种低压化学气相沉积炉管和低压化学气相沉积炉，包括反应室，以及套设在反应室外的炉管恒温层，反应室内径在230mm至232mm之间，外径在240mm至242mm之间，炉管恒温层为两端开口的空心管状，炉管恒温层内径在258mm至262mm之间，外径在330mm至350mm之间，炉管恒温层内壁绕设炉丝，炉丝可外接电源加热。满足炉管外壁外径在330mm至350mm之间，实现制作最大尺寸产品为6寸硅片，相比现有制作6寸产品的设备，减小炉体体积，解决炉体占地面积大的问题。整个炉体其他系统都维持了原有制作5寸产品的能耗，解决了能耗高的问题。 |
