掩模装置及掩模控制方法
基本信息
| 申请号 | CN201811102151.2 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN109031882B | 公开（公告）日 | 2021-09-21 |
| 申请公布号 | CN109031882B | 申请公布日 | 2021-09-21 |
| 分类号 | G03F7/20（2006.01）I | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 蔡鹏;王鑫;王洋;杨军;张灿 | 申请（专利权）人 | 重庆京东方光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 杨广宇 |
| 地址 | 100015北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种掩模装置及掩模控制方法，属于显示技术领域。所述掩模装置包括：掩模板、多个加压结构和控制器，掩模板包括与多个加压结构一一对应的多个掩模单元，掩模单元在受到第一压力时处于遮光状态，且在受到第二压力时处于透光状态，控制器与每个加压结构均连接；控制器用于：控制多个加压结构中的第一加压结构向其对应的掩模单元施加第一压力，以使第一加压结构对应的掩模单元处于遮光状态；控制多个加压结构中的第二加压结构向其对应的掩模单元施加第二压力，以使第二加压结构对应的掩模单元处于透光状态。本发明解决了掩模装置的工作效率较低的问题。本发明用于对显示面板中的膜层进行掩模。 |
