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阵列基板及其制作方法、显示装置、掩模板

基本信息

申请号 CN201910152883.0 申请日 -
公开（公告）号 CN109884830B 公开（公告）日 2021-09-21
申请公布号 CN109884830B 申请公布日 2021-09-21
分类号 G02F1/1362（2006.01）I;G02F1/1345（2006.01）I;G02F1/13（2006.01）I 分类 光学;
发明人 王小元;方琰;王武;白雅杰;毕瑞琳;吴胜学 申请（专利权）人 重庆京东方光电科技有限公司
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 焦玉恒
地址 100015北京市朝阳区酒仙桥路10号
法律状态 -

摘要

摘要 一种阵列基板及其制作方法、显示装置和掩模板。该阵列基板包括衬底基板；第一导电层，位于衬底基板上；绝缘层，位于第一导电层远离衬底基板的一侧；以及有机层，位于绝缘层远离第一导电层的一侧，周边区包括至少一个绑定区，在各绑定区，第一导电层包括间隔设置的多个引线，有机层包括暴露多个引线的第一开口，第一开口包括与引线的延伸方向相交的边缘，有机层还包括与边缘相连的锯齿形凹槽，在沿垂直于衬底基板的方向上，锯齿形凹槽的深度小于有机层的厚度，锯齿形凹槽在平行于衬底基板的平面上的正投影为锯齿形。由此，该阵列基板可避免造成绑定区短路。