一种微波等离子发生系统和蚀刻设备
基本信息
| 申请号 | CN202120820527.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215418097U | 公开（公告）日 | 2022-01-04 |
| 申请公布号 | CN215418097U | 申请公布日 | 2022-01-04 |
| 分类号 | H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H05H1/46（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 余涛;庞金元 | 申请（专利权）人 | 上海璞芯科技有限公司 |
| 代理机构 | 苏州铭浩知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 朱斌兵 |
| 地址 | 215000 江苏省苏州市中国（江苏）自由贸易试验区苏州片区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区04幢101室 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种微波等离子发生系统和蚀刻设备；微波等离子发生系统包括微波电源、波导管、微波谐振腔、送气部和进气装置；波导管一端与微波电源相连；微波谐振腔上具有进气口和至少两个送气口，微波谐振腔与波导管的另一端相通；送气部与送气口相通，进气装置与进气口相通；蚀刻设备包括微波等离子发生系统、晶圆处理腔室、晶圆传送系统和离子化气体控制系统；本实用新型的微波等离子发生系统和蚀刻设备，在微波谐振腔内同时使用两根高纯石英管作为离子化气体的送气通道，这样离子化后的气体分别同时导入两个晶圆处理腔室，实现了一套微波等离子发生系统能同时对两个晶圆进行等离子蚀刻处理的能力，提升了晶圆的处理速度，生产能力强。 |
