一种带水汽蒸发系统的工艺腔室
基本信息
申请号 | CN202110799500.6 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN113380677A | 公开(公告)日 | 2021-09-10 |
申请公布号 | CN113380677A | 申请公布日 | 2021-09-10 |
分类号 | H01L21/67 | 分类 | 基本电气元件; |
发明人 | 宋立禄;张海林;滕玉朋;刘国霞;吴寄浩 | 申请(专利权)人 | 赛瑞达智能电子装备(无锡)股份有限公司 |
代理机构 | 青岛晸投知识产权代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 李常芳 |
地址 | 266000 山东省青岛市高新区华东路826号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明公开了一种带水汽蒸发系统的工艺腔室,包括架体,架体上安装有加热器,加热器的内侧安装有工艺管,工艺管安装在加热器之间,且为非接触式固定安装,工艺管的管口处设置有工艺管密封法兰压紧工艺管密封圈,在管口的外侧设置有摆动炉门,工艺管下端的内壁上设置有工艺进气管,所述工艺进气管的一端连接有进气阀,所述进气阀的另一端通过连接管连接有水汽蒸发系统本发明的有益效果是,在正常硼扩散工艺后通入水汽,进入工艺腔室的水汽对原有工艺腔室内部残存的化学物质进行水汽中和,避免工艺腔室内部和管口产生存留物质,黏附炉门和工艺腔室内不干净的作用,延长工艺腔室拆卸清洗周期,提高设备利用率,提高产能,减少工艺管拆换工作量。 |
