基于换底机制的陶瓷水印模型训练方法、装置和嵌密方法
基本信息
| 申请号 | CN202110846388.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113538201B | 公开（公告）日 | 2022-06-21 |
| 申请公布号 | CN113538201B | 申请公布日 | 2022-06-21 |
| 分类号 | G06T1/00;G06F21/10;G06F21/60;G06N3/04;G06N3/08;C04B41/85 | 分类 | 计算；推算；计数; |
| 发明人 | 王俊祥;郭学镜;曾文超;余旺科;方毅翔 | 申请（专利权）人 | 景德镇陶瓷大学 |
| 代理机构 | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 | 代理人 | 沈惠娟 |
| 地址 | 333403 江西省景德镇市景德镇陶瓷大学湘湖校区机电学院 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种基于换底机制的陶瓷水印模型训练方法、装置和嵌密方法，其中基于换底机制的陶瓷水印模型训练方法通过掩膜和训练图像对第一水印图像进行换底，由此可以使得在利用训练完成的陶瓷水印模型往原始陶瓷图像中嵌密时，水印信息能够以不可察觉的方式嵌入在原始图像的边界上，同时使水印信息不会产生“条纹现象”，提高图像的视觉质量。 |
