电解质等离子抛光设备
基本信息
申请号 | CN201922235926.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN211332457U | 公开(公告)日 | 2020-08-25 |
申请公布号 | CN211332457U | 申请公布日 | 2020-08-25 |
分类号 | B24B1/00(2006.01)I;B24B57/02(2006.01)I | 分类 | - |
发明人 | 张叶成 | 申请(专利权)人 | 东莞市大源智能设备科技有限公司 |
代理机构 | 深圳市千纳专利代理有限公司 | 代理人 | 东莞市大源智能设备科技有限公司 |
地址 | 523000广东省东莞市长安厦边社区景福路5号4楼 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了电解质等离子抛光设备,通过支杆、限位套和滑杆的配合,使得滑杆能在限位套的内部上下滑动,通过浮球与滑杆的配合,当浮球受到电解液推动向上运动时,将带动滑杆向上运动,通过密封板和滑杆的配合,当滑杆向上运动到密封板与进料管底端贴合时,进料管将被堵住,电解液则不会在进入储液箱中,通过导向板,对进料管内流入的电解液进行缓冲,电解液经过缓冲后流至过滤网上,经过过滤网的过滤后流入等离子抛光机中,此设备通过在电解池与抛光等离子抛光机之间增加储液罐,起到了缓冲作用,使得抛光机的生产速度能够得到最大的发挥,同时不损伤抛光机,极大程度的提升了生产速度,带来极大的经济利益。 |
