调节装置
基本信息
申请号 | CN201921805633.4 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN210835587U | 公开(公告)日 | 2020-06-23 |
申请公布号 | CN210835587U | 申请公布日 | 2020-06-23 |
分类号 | G03F9/00(2006.01)I | 分类 | - |
发明人 | 王乡;钟勇 | 申请(专利权)人 | 珠海迈时光电科技有限公司 |
代理机构 | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 叶琦炜 |
地址 | 519000广东省珠海市香洲区南屏科技工业园屏东六路1号9号楼第二层205、206房 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型涉及光刻胶曝光技术领域,公开了一种调节装置,能够调节对基片向上的压力大小。本实用新型包括底座,设有第一孔和第二孔;活动柱,以活动连接方式穿设于第二孔上;可调节的气囊,填充于第一孔内;半球型的碗槽,设于活动柱上端且底部设有可调节的真空腔;基片承载台,上端设有用于放置基片的平台;半球型的连接体,固定于基片承载台的底部,连接体置于碗槽内并与活动柱滑动连接。利用连接体和碗槽,可调节基片承载台的水平度,使基片上端面与掩膜板下端面完全贴合;调节气囊的压强,可改变对活动柱向上的力,从而改变基片承载台对基片向上的压力,则可调节基片和掩膜板之间接触的压强大小,使基片与掩膜板之间的接触压强在所需范围内。 |
