一种反应腔装置
基本信息
| 申请号 | CN202022651965.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213583693U | 公开（公告）日 | 2021-06-29 |
| 申请公布号 | CN213583693U | 申请公布日 | 2021-06-29 |
| 分类号 | H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 邱勇;孙晓东 | 申请（专利权）人 | 上海谙邦半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201306上海市浦东新区环湖西二路888号C楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种反应腔装置，包括：反应腔主体；位于所述反应腔主体内的晶圆夹持平台，所述晶圆夹持平台的表面适于放置晶圆；贯穿所述晶圆夹持平台的若干位移孔；分别位于所述位移孔中的顶针，所述顶针的顶头设置有测温探头，所述顶针适于在所述位移孔中往复移动，使所述顶针的顶头在高于所述晶圆夹持平台的上表面的位置至低于所述晶圆夹持平台的上表面的位置之间变化。所述反应腔装置能够对H2混合气还原灰化反应中的晶圆的温度进行有效的控制和调节。 |
