一种反应腔装置
基本信息
| 申请号 | CN202023041281.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN214279904U | 公开（公告）日 | 2021-09-24 |
| 申请公布号 | CN214279904U | 申请公布日 | 2021-09-24 |
| 分类号 | H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 邱勇;孙晓东 | 申请（专利权）人 | 上海谙邦半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201306上海市浦东新区环湖西二路888号C楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种反应腔装置，包括：反应腔主体；位于所述反应腔主体内的晶圆承载平台，所述晶圆承载平台的表面适于放置晶圆；环绕所述晶圆承载平台的缓冲环，所述缓冲环适于延长反应源粒子沿着晶圆表面向外横向运动的路径。所述反应腔装置能够调节晶圆表面的反应速率的均匀性。 |
