一种反应腔装置
基本信息
| 申请号 | CN202120045068.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN213878020U | 公开（公告）日 | 2021-08-03 |
| 申请公布号 | CN213878020U | 申请公布日 | 2021-08-03 |
| 分类号 | H01J37/32（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H01L21/683（2006.01）I;G03F7/42（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 邱勇;吴堃;张朋兵;陈世名 | 申请（专利权）人 | 上海谙邦半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 201306上海市浦东新区环湖西二路888号C楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种反应腔装置，包括：反应腔主体；位于所述反应腔主体内的晶圆承载平台，所述晶圆承载平台的表面适于放置晶圆，所述晶圆承载平台沿着晶圆承载平台的上表面包括若干个间隔的温控区域，各温控区域之间具有热隔离通道。所述反应腔装置能够提高晶圆表面反应的均匀性和对称性。 |
