一种新型的用于半导体器件制造的设备平台及其工作方法
基本信息
| 申请号 | CN202111600607.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114284190A | 公开（公告）日 | 2022-04-05 |
| 申请公布号 | CN114284190A | 申请公布日 | 2022-04-05 |
| 分类号 | H01L21/677（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 张朋兵;陈世名 | 申请（专利权）人 | 上海谙邦半导体设备有限公司 |
| 代理机构 | 上海创开专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 李兰兰 |
| 地址 | 200120上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区洲德路1588号2幢2座 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种新型的用于半导体器件制造的设备平台及其工作方法，设备平台包括：传送腔组，所述传送腔组包括多个传送腔；围绕所述传送腔组的侧部周围排布的缓冲腔组和工艺腔组，所述工艺腔组包括围绕所述传送腔组的部分侧部排布的多个工艺腔，所述缓冲腔组包括多个缓冲腔，所述缓冲腔分别位于所述传送腔组的侧部。所述设备平台的输出能力得到提高。 |
