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等离子刻蚀承载装置及等离子刻蚀机

基本信息

申请号 CN201910506050.X 申请日 -
公开（公告）号 CN110299278B 公开（公告）日 2021-10-08
申请公布号 CN110299278B 申请公布日 2021-10-08
分类号 H01J37/32（2006.01）I;H01J37/20（2006.01）I 分类 基本电气元件;
发明人 丁烨滨;胡根水;孙虎;李俊生 申请（专利权）人 华灿光电（苏州）有限公司
代理机构 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 代理人 徐立
地址 215600江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路
法律状态 -

摘要

摘要 本发明公开了一种等离子刻蚀承载装置及等离子刻蚀机，属于等离子刻蚀领域。等离子刻蚀承载装置包括：晶圆载盘和至少两个限位件，所述晶圆载盘和所述限位件的材质均为SiC，所述晶圆载盘的体积大于所述限位件的体积，所述晶圆载盘为圆盘，各所述限位件分别可拆卸地安装于所述晶圆载盘的第一圆面，每两个所述限位件用于将晶圆片卡设在每两个所述限位件之间的第一圆面上。等离子刻蚀机包括刻蚀腔、背氦单元、真空单元、供气单元、以及承载装置，所述承载装置用于承载晶圆片，所述承载装置与所述刻蚀腔相配套，所述承载装置为前述等离子刻蚀承载装置。