一种偏光膜延伸处理装置、工艺及偏光片
基本信息
| 申请号 | CN202111478046.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114211792A | 公开（公告）日 | 2022-03-22 |
| 申请公布号 | CN114211792A | 申请公布日 | 2022-03-22 |
| 分类号 | B29D11/00（2006.01）I;B29D7/01（2006.01）I;G02B5/30（2006.01）I | 分类 | 塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工; |
| 发明人 | 金仲;李帅;施明志;张均铭;郭育诚;黄源 | 申请（专利权）人 | 恒美光电股份有限公司 |
| 代理机构 | 苏州威世朋知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 韩臻臻 |
| 地址 | 215300江苏省苏州市昆山经济技术开发区剑湖路111号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种偏光膜延伸处理装置、工艺及偏光片，所述装置包括膨润槽、染色槽、交联槽、延伸槽、调整槽、洗涤槽、干燥单元以及偏光膜表面药剂去除机构；所述工艺包括将PVA基膜依次经过膨润、染色、交联、延伸、调整、洗涤、干燥工序处理后得到PVA偏光膜，所述洗涤工序中应用的洗涤液为纯水；通过将洗涤工序替换掉传统的补色工序，能够有效去除偏光膜表面的硼酸附着，避免干燥后硼酸结晶导致的缺陷异常，提高偏光膜贴合前的表面洁净度，降低点状缺陷发生率，提升产品良率，同时降低化学品使用量，提升偏光膜表面亲水基团数量，制造出物理性能更优异的偏光片。 |
