一种基于锑快门开关的无失配II类超晶格结构

基本信息

申请号 CN202020223057.9 申请日 -
公开(公告)号 CN211208457U 公开(公告)日 2020-08-07
申请公布号 CN211208457U 申请公布日 2020-08-07
分类号 H01L31/0352;H01L31/18;C23C14/02;C23C14/06 分类 基本电气元件;
发明人 徐志成;朱艺红;梁钊铭;陈凯豪;陈建新 申请(专利权)人 常州中科德材科技发展有限公司
代理机构 上海沪慧律师事务所 代理人 郭英
地址 200083 上海市虹口区玉田路500号
法律状态 -

摘要

摘要 本专利公开了一种基于锑快门开关的无失配II类超晶格结构。其单周期结构包括GaSb层,InAs层和InAsSb界面层三层结构。其制备方法是在II类超晶格周期性结构生长过程中,GaSb生长后直接生长InAs层,InAs生长后,打开Sb快门,使得Sb和InAs层中的As进行元素置换,从而形成InAsSb界面层。其特点在于:由于取消了InSb界面层的直接生长,仅在InAs生长后通过引入Sb浸润形成InAsSb界面层,既满足了应力补偿的需求,又简化了界面制备工艺难度,此外,避免了大失配InSb界面直接生长时引入的岛装结构缺陷,提高了材料性能。