钕铁硼真空冶炼功率调节方法、装置、系统和存储介质
基本信息
| 申请号 | CN202110306535.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113157044A | 公开（公告）日 | 2021-07-23 |
| 申请公布号 | CN113157044A | 申请公布日 | 2021-07-23 |
| 分类号 | G05F1/66;C22C33/04 | 分类 | 控制；调节; |
| 发明人 | 徐福兴;王吉刚;富海军;王玉鹏;王鹏 | 申请（专利权）人 | 沈阳广泰真空科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京中强智尚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 黄耀威 |
| 地址 | 110172 辽宁省沈阳市沈抚新区同城路599号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种钕铁硼真空冶炼功率调节方法、装置、系统和存储介质，涉及钕铁硼稀土真空冶炼技术领域。其中方法包括：采集中频电源输出的实时功率值；对实时功率值和预设功率曲线对应的设定功率值之间的偏差值进行不完全微分PID控制调节，得到目标功率值；输出目标功率值。上述方法可以使目标功率值与实时功率值保持一致，从而提高了功率调节的一致性，同时，该方法省去了反复模拟输出百分比的繁琐操作，提高了工作效率，此外，该方法还可以使功率调节的步进条段采用渐变的方式平稳的升高或者下降，因而不会对中频电源IGBT造成冲击，延长了中频电源的使用寿命。 |
