PVD设备的双面镀膜控制方法、装置及系统
基本信息
| 申请号 | CN202011416265.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112522679A | 公开（公告）日 | 2021-03-19 |
| 申请公布号 | CN112522679A | 申请公布日 | 2021-03-19 |
| 分类号 | C23C14/56(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王海平;曹磊;王鹏 | 申请（专利权）人 | 沈阳广泰真空科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京中强智尚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 黄耀威 |
| 地址 | 110172辽宁省沈阳市沈抚新区同城路599号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请公开了一种PVD设备的双面镀膜控制方法、装置及系统，涉及镀膜技术领域，可以解决在控制执行PVD设备的双面镀膜时，采用人工判断、翻面及启停弧源等方式，导致人工成本较高，且镀膜效率较低、误差率较大的问题。其中方法包括：利用前升降料台系统接收用于盛装目标物料的目标料盘，并采集所述目标料盘的工作信息；基于所述工作信息控制翻转台系统以及镀膜主机执行所述目标物料下的双面镀膜操作。本申请适用于对PVD设备的双面镀膜控制。 |
