一种用于非常规激光陀螺腔体抛光的快速上盘装置及方法

基本信息

申请号 CN202110303947.X 申请日 -
公开(公告)号 CN113084682B 公开(公告)日 2022-04-22
申请公布号 CN113084682B 申请公布日 2022-04-22
分类号 B24B29/02(2006.01)I;B24B27/00(2006.01)I;B24B49/00(2012.01)I;B24B55/00(2006.01)I;B24B41/06(2012.01)I 分类 磨削;抛光;
发明人 王锐;冯保华;王琦;张妤 申请(专利权)人 北京航天时代激光导航技术有限责任公司
代理机构 中国航天科技专利中心 代理人 陈鹏
地址 100094北京市海淀区永丰产业基地永捷北路3号A座3层312室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明提供了一种用于非常规激光陀螺腔体抛光的快速上盘装置及方法,该上盘装置包括第一微调机构和第二微调机构,第一微调结构用于基准侧面的调整量的确定,第二微调机构用于根据调整量光胶上盘。通过该上盘装置实施激光陀螺腔体在方砖上的上盘,满足了陀螺腔体基准侧面的高效精准抛光,即使激光陀螺腔体省略了前期机械加工和光学加工的穿叉工序,仅加工了一个基准大面,也能够通过后续基准侧面的抛光快速有效实现粘贴面的精确加工,为低成本、小体型和高精度的激光陀螺腔体的高效加工创造了条件。