一种应用大马士革工艺的mini/microLED芯片及其制作方法

基本信息

申请号 CN202111575134.2 申请日 -
公开(公告)号 CN113948618A 公开(公告)日 2022-01-18
申请公布号 CN113948618A 申请公布日 2022-01-18
分类号 H01L33/00(2010.01)I;H01L33/36(2010.01)I;H01L33/62(2010.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 李俊承;赵敏博;谈凯强;刘苏杰;王克来;白继锋;熊珊;潘彬;王向武 申请(专利权)人 南昌凯捷半导体科技有限公司
代理机构 南昌金轩知识产权代理有限公司 代理人 石英
地址 330000江西省南昌市临空经济区黄堂西街199号8#厂房204室
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及LED技术领域,具体涉及一种应用大马士革工艺的mini/micro LED芯片及其制作方法,该制作方法包括以下步骤:沉积第一钝化层、抛光、沉积SiNx腐蚀阻挡层、沉积第二钝化层、蚀刻焊线电极图形、焊盘电极制作、抛光表面电极、蓝宝石减薄、最后抛光、隐形切割、劈裂,完成芯片制作。本发明采用大马士革方法制作mini/micro LED的焊盘锡电极,无需进行金属层的蚀刻,可制作厚电极,图形精度高,同时可避免使用负胶剥离或在封装端刷锡膏,提高工艺的稳定性;采用磁控溅射种子层和电镀相结合的方式,可避免使用金属蒸镀机,不存在污染蒸镀机与维护的问题,制作成本低。