半导体器件、射频电路装置和制造方法

基本信息

申请号 CN201910007080.6 申请日 -
公开(公告)号 CN111416592A 公开(公告)日 2020-07-14
申请公布号 CN111416592A 申请公布日 2020-07-14
分类号 H03H9/10(2006.01)I 分类 -
发明人 王晔晔;陈威;刘海玲;陈高鹏;于涛 申请(专利权)人 宜确半导体(苏州)有限公司
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 宜确半导体(苏州)有限公司
地址 215123江苏省苏州市苏州工业园区若水路388号
法律状态 -

摘要

摘要 本公开提供了一种半导体器件、射频电路装置和制造方法,涉及半导体技术领域。该半导体器件可以包括:衬底,该衬底包括用于声波器件的组件;在该衬底上的多个连接件,该多个连接件分别与该组件连接;在该衬底上的环状件,其中,该多个连接件在该环状件所围成区域的外部;以及在该环状件上的盖件,其中,该盖件、该衬底和该环状件形成用于该声波器件的腔体。该半导体器件的体积较小,并且便于与其他功能器件集成。