一种金属化电容器薄膜生产用真空蒸镀装置
基本信息
申请号 | CN202121022569.X | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN215163062U | 公开(公告)日 | 2021-12-14 |
申请公布号 | CN215163062U | 申请公布日 | 2021-12-14 |
分类号 | C23C14/24(2006.01)I;C23C14/20(2006.01)I;H01G13/00(2013.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 林美云;吴忠平 | 申请(专利权)人 | 湖北龙辰科技股份有限公司 |
代理机构 | 武汉红观专利代理事务所(普通合伙) | 代理人 | 李季 |
地址 | 438000湖北省黄冈市高新技术开发区 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本实用新型公开了一种金属化电容器薄膜生产用真空蒸镀装置,包括壳体A,所述壳体A的一侧设置有壳体B,所述壳体B有两个,所述壳体A与所述壳体B的底部设置有安装座,所述壳体B的内部对称设置有安装轴,所述安装轴的顶部与底部对称设置有安装板,所述安装板的表面等角度开设有多个安装孔,所述安装轴贯穿通过所述安装孔的内部,所述安装轴的底部与所述安装孔之间设置有限位组件所述壳体A与所述壳体B的连接面设置有密封组件,所述密封组件包密封凸条、卡槽、密封垫A和密封垫B;该实用新型通过设计的密封组件便于提高壳体A与壳体B之间连接的密封性,使得薄膜在进行蒸镀时可以保持较好的真空状态,使得薄膜的蒸镀效果较好。 |
